据 TheElec 报道，韩国 EUV 设备制造商 ESOL 首席执行官 Kim Byung-gook 在接受采访时表示，今年将推出其第二代 EUV（极紫外）设备原型。
KimByung-gook 说，该公司去年获得了 350 亿韩元（当前约 1.88 亿元人民币）的资金，其中大部分将用于研发。到目前为止，ESOL 已经在其第一代产品线中推出了四款产品。其中，EUV 掩模检查设备和 EUV 薄膜透光率检测机已经产生收入。
ESOL 是芯片薄膜制造商 FST 的子公司，由曾在三星芯片业务部门工作的 Kim Byung-gook 于 2018 年创立。
IT之家了解到，ESOL 主要开发 EUV 解决方案，专注于为 EUV 或极紫外光刻应用开发各种解决方案和设备。
其第一代产品线的另外两款产品，即 EUV 相位反转掩模机和用于光刻胶显影的光刻机，也有望在今年产生收入。
ESOL 目前的四款产品中的主要产品是其薄膜透光率检测设备，在该领域它至少要面临两个竞争对手。
EUV 掩模检查设备称为 SREM 330，拥有扫描反射 EUV 显微镜，还有称为 FREM 或全场反射 EUV 显微镜的配套设备正在开发中。
同时，ESOL 公司 EUV 第二代阵容共有三款产品，其中一款将于今年推出。新设备将包括升级后的 EUV 掩模检查设备，可以扫描掩模的整个表面，而不是像第一代机器那样只扫描某些点。
原标题：韩国 ESOL 今年将展示第二代 EUV 原型设备
