英伟达发布新闻稿，正式宣布与台积电以及新思科技（Synopsys）合作，推进部署使用英伟达的计算光刻平台，旨在加速制造并推动下一代先进半导体芯片的物理极限。
合作关系与目标
台积电和新思科技决定在其软件、制造工艺和系统中集成英伟达的cuLitho计算光刻平台，以加快芯片制造速度，并在未来支持最新一代英伟达Blackwell架构GPU。这一合作旨在提高半导体制造的效率和质量，以应对日益增长的市场需求。
英伟达创新技术加速半导体制造
黄仁勋在GTC开发者大会上表示：“计算光刻技术是芯片制造的基石。”英伟达与台积电、Synopsys合作开发的cuLitho应用了加速计算和生成式人工智能，为半导体规模化开辟了新的领域。这一创新技术的推出将为半导体制造业带来重大变革。
提高效率与降低成本
英伟达还推出了全新的生成式人工智能算法，增强了cuLitho平台，相比目前基于CPU的方法，显著改善了半导体制造工艺。通过应用生成式人工智能，不仅提高了生产效率，还降低了成本和能耗，为半导体行业带来了更多发展机遇。
